光学材料抗氧化真空烤箱
光学材料研发：为高校、科研院所的光学材料研发提供专业实验设备，支持新型光学材料的合成、改性与性能测试。在无氧、超净的环境下，研究材料的光学特性变化规律，加速科研成果转化，推动光学材料技术的创新发展。

超高真空度保障：配备分子泵与涡轮泵组成的真空系统，可快速将箱内真空度抽至 1×10⁻⁵Pa 甚至更低，远超常规真空烤箱。极低的氧气与水汽含量，从根本上杜绝光学材料在高温处理过程中的氧化风险，确保材料的光学性能不受影响。例如，在镀膜工艺前的基材预处理环节，超高真空环境能有效避免表面吸附杂质与氧化，为后续镀膜奠定良好基础 。

纳米级温度均匀性：采用蜂窝式加热技术与多通道热流控制系统，实现 ±0.1℃的超精准控温，箱内温度均匀性误差控制在 ±0.3℃以内。这种纳米级的温度均匀性，能够避免光学材料因局部温差产生热应力变形，保证材料在退火、固化等高温处理过程中，尺寸精度与表面平整度不受影响，维持其优良的光学特性。

超净气体置换：搭载超纯气体过滤系统，对充入的惰性气体（如高纯氮气、氩气）进行三级过滤，去除气体中的颗粒杂质与微量氧化性成分。气体置换效率高达 99.99%，可在极短时间内将箱内氧气浓度降至 0.001% 以下，为光学材料构建起超洁净、无氧的处理环境，防止材料表面被污染或氧化。

防静电与低尘设计：内胆采用防静电不锈钢材质，并进行镜面抛光处理，表面粗糙度 Ra≤0.2μm，有效减少灰尘吸附。设备内部配备高效空气过滤器（HEPA），可过滤≥0.3μm 的颗粒，洁净度达到 ISO 5 级标准，满足光学材料对超净环境的严苛要求，避免灰尘颗粒对光学材料表面造成划伤或污染。

精密震动抑制：光学材料对震动极为敏感，轻微震动可能导致镀膜不均或材料破损。该烤箱采用悬浮式减震底座与无刷循环风机，将运行时的震动幅度控制在 5μm 以下，确保设备在升温、降温及气体置换过程中，不会对光学材料产生干扰，保障处理过程的稳定性。

智能光学参数监测：内置光谱透过率实时监测模块，可在处理过程中对光学材料的透光率、反射率等关键光学参数进行在线检测。一旦发现参数异常，系统自动报警并调整处理工艺，帮助用户及时优化工艺参数，提高光学材料的良品率。

光学镀膜工艺：在光学镜片、反射镜、滤光片等镀膜前，对基材进行真空干燥与除气处理，去除表面吸附的水分与杂质，防止氧化；镀膜过程中，维持稳定的真空与无氧环境，确保膜层均匀性与附着力，提升镀膜质量与光学性能。

光学材料退火处理：用于消除光学玻璃、晶体等材料在加工过程中产生的内应力，通过精准控温与均匀的温度场，使材料内部结构重新排列，提高材料的机械强度与光学均匀性，减少因内应力导致的光学畸变与开裂风险。